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文献
J-GLOBAL ID：200902159570794222
整理番号：01A0793049
多極磁気プラズマ閉込めを用いたrf-dc結合マグネトロンスパッタリングによるNi膜の高速スパッタリング
High rate sputtering for Ni films by an rf-dc coupled magnetron sputtering system with multipolar magnetic plasma confinement.
KAWABATA K
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
TANAKA T
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
KITABATAKE A
(Hiroshima Sanyo Vacuum Ind. Co., Ltd., Hiroshima, JPN)
,
YAMADA K
(Hiroshima Sanyo Vacuum Ind. Co., Ltd., Hiroshima, JPN)
,
MIKAMI Y
(Hiroshima Sanyo Vacuum Ind. Co., Ltd., Hiroshima, JPN)
,
KAJIOKA H
(Western Hiroshima Prefecture Industrial Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
TOIYAMA K
(Western Hiroshima Prefecture Industrial Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 19 号： 4,Pt.1 ページ： 1438-1441 発行年： 2001年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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