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文献
J-GLOBAL ID：200902159619855044
整理番号：98A0821873
シリコンへの金属の電気化学的堆積
Electrochemical deposition of metals onto silicon.
OSKAM G
(Johns Hopkins Univ., MD, USA)
,
LONG J G
(Johns Hopkins Univ., MD, USA)
,
NATARAJAN A
(Johns Hopkins Univ., MD, USA)
,
SEARSON P C
(Johns Hopkins Univ., MD, USA)
資料名：
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 31 号： 16 ページ： 1927-1949 発行年： 1998年08月21日
JST資料番号： B0092B ISSN： 0022-3727 CODEN： JPAPBE 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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