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文献
J-GLOBAL ID：200902159705920843
整理番号：01A1028391
キンヒドロン/エタノール処理によるシリコン基板の表面不動態化効果
Surface Passivation Effect of Silicon Substrates due to Quinhydrone/Ethanol Treatment.
TAKATO H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. Technol., Ibaraki, JPN)
,
SAKATA I
(National Inst. Advanced Industrial Sci. Technol., Ibaraki, JPN)
,
SHIMOKAWA R
(National Inst. Advanced Industrial Sci. Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 40 号： 10A ページ： L1003-L1004 発行年： 2001年10月01日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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