文献
J-GLOBAL ID:200902159805072092
整理番号:93A0387858
The reactive sputtering of thin films of TiN at low target voltages.
著者 (3件):
SWADY R A
(Loughborough Univ. Technology, Leicestershire, GBR)
,
JA’FER H A
(Loughborough Univ. Technology, Leicestershire, GBR)
,
HOWSON R P
(Loughborough Univ. Technology, Leicestershire, GBR)
資料名:
Vacuum
(Vacuum)
巻:
44
号:
3/4
ページ:
297-301
発行年:
1993年03月
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)