文献
J-GLOBAL ID:200902159862264240
整理番号:93A0950241
サブミクロン光リソグラフィーでの焦光効果の理解 概説
Understanding focus effects in submicrometer optical lithography: a review.
著者 (1件):
MACK C A
(FINLE Technologies, Texas)
資料名:
Optical Engineering
(Optical Engineering)
巻:
32
号:
10
ページ:
2350-2362
発行年:
1993年10月
JST資料番号:
B0577B
ISSN:
0091-3286
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)