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文献
J-GLOBAL ID：200902159953088917
整理番号：93A0749437
低圧化学蒸着による酸化アルミニウム膜の成長に対する水蒸気の効果
Effect of water vapor on the growth of aluminum oxide films by low pressure chemical vapor deposition.
KIM J S
(Univ. Kentucky, KY, USA)
,
MARZOUK H A
(Univ. Kentucky, KY, USA)
,
REUCROFT P J
(Univ. Kentucky, KY, USA)
,
ROBERTSON J D
(Univ. Kentucky, KY, USA)
,
HAMRIN C E JR
(Univ. Kentucky, KY, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 230 号： 2 ページ： 156-159 発行年： 1993年08月10日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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