文献
J-GLOBAL ID:200902160340047345
整理番号:93A0391009
ジシランの低温熱分解で得た低圧化学蒸着無定形Si膜の析出と結晶化
Deposition and Crystallization of a-Si Low Pressure Chemically Vapor Deposited Films Obtained by Low-Temperature Pyrolysis of Disilane.
著者 (2件):
VOUTSAS A T
(Lehigh Univ., Pennsylvania)
,
HATALIS M K
(Lehigh Univ., Pennsylvania)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
140
号:
3
ページ:
871-877
発行年:
1993年03月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)