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文献
J-GLOBAL ID：200902160596238822
整理番号：01A1029679
急速熱処理でアニールした高k誘電体ZrO2膜の特性
Characterization of high-K dielectric ZrO2 films annealed by rapid thermal processing.
HU Y-Z
(Mattson Technol., Inc., California)
,
TAY S-P
(Mattson Technol., Inc., California)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 19 号： 5 ページ： 1706-1714 発行年： 2001年09月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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