文献
J-GLOBAL ID:200902160774880606
整理番号:94A0438031
超清浄ウエハ表面実現のための改良湿式化学洗浄法
Improved Wet Chemical Cleaning for Realization of Ultra Clean Wafer Surface.
著者 (4件):
OHMI T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
IMAOKA T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TAKANO J
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KUNIMOTO F
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Particulate Science and Technology
(Particulate Science and Technology)
巻:
11
号:
3/4
ページ:
229-243
発行年:
1993年07月
JST資料番号:
D0645B
ISSN:
0272-6351
CODEN:
PTCHDS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)