文献
J-GLOBAL ID:200902160939549144
整理番号:97A0024146
SiO2上の薄いシリコン膜の逐次横方向凝固
Sequential lateral solidification of thin silicon films on SiO2.
著者 (2件):
SPOSILI R S
(Columbia Univ., New York)
,
IM J S
(Columbia Univ., New York)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
69
号:
19
ページ:
2864-2866
発行年:
1996年11月04日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)