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文献
J-GLOBAL ID：200902161007586723
整理番号：97A0722338
CoSi2/Si(100)非均質構造へのPdイオン注入によるSi(100)への3成分Co1-xPdxSi2形成
Formation of ternary Co1-xPdxSi2 on Si(100) by Pd ion implantation in CoSi2/Si(100) heterostructures.
TISCH U
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
HOLLAENDER B
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
HACKE M
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
MESTERS S
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
MICHELSEN W
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
GUGGI D
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
MANTL S
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
KABIUS B
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
資料名：
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 127/128 ページ： 324-327 発行年： 1997年05月
JST資料番号： H0899A ISSN： 0168-583X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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