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J-GLOBAL ID：200902161102473030 整理番号：93A0648967

Si中へのCuイオン注入

Cu Ion Implantation into Si.

著者 (4件)：

松井務

(東北大金材研)

高広克己

(東北大金材研)

永田晋二

(東北大金材研)

山口貞衛

(東北大金材研)

資料名：

応用物理学関係連合講演会講演予稿集 (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)

巻： 40th 号： Pt 2 ページ： 591 発行年： 1993年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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