文献
J-GLOBAL ID:200902161189171116
整理番号:97A0093029
rfマグネトロンスパッタリングで作製した酸化チタン膜の特性評価
Characterizations of titanium oxide films prepared by radio frequency magnetron sputtering.
著者 (4件):
MARTIN N
(Lab. Metrologie des Interfaces Techniques, Montbeliard, FRA)
,
ROUSSELOT C
(Lab. Metrologie des Interfaces Techniques, Montbeliard, FRA)
,
SAVALL C
(Lab. Physique et de Metrologie des Oscillateurs, Montbeliard, FRA)
,
PALMINO F
(Lab. Physique et de Metrologie des Oscillateurs, Montbeliard, FRA)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
287
号:
1/2
ページ:
154-163
発行年:
1996年10月30日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)