文献
J-GLOBAL ID:200902161524500090
整理番号:93A0708539
HFからVHFの周波数域のRFプラズマ構造と生成効率の計算研究
A computational investigation of the RF plasma structures and their production efficiency in the frequency range from HF to VHF.
著者 (4件):
KITAMURA T
(Keio Univ., Yokohama, JPN)
,
NAKANO N
(Keio Univ., Yokohama, JPN)
,
MAKABE T
(Keio Univ., Yokohama, JPN)
,
YAMAGUCHI Y
(Mitsubishi Kasei Corp., Yokohama, JPN)
資料名:
Plasma Sources Science and Technology
(Plasma Sources Science and Technology)
巻:
2
号:
1
ページ:
40-45
発行年:
1993年02月
JST資料番号:
W0479A
ISSN:
0963-0252
CODEN:
PSTEEU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)