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文献
J-GLOBAL ID：200902161812060975
整理番号：01A0300410
多孔質アルミナ膜をマスクに用いて作成した100nm周期シリコン反射防止構造
100nm period silicon antireflection structures fabricated using a porous alumina membrane mask.
KANAMORI Y
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
HANE K
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
SAI H
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
YUGAMI H
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 78 号： 2 ページ： 142-143 発行年： 2001年01月08日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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