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文献
J-GLOBAL ID：200902161825953561
整理番号：00A0908576
Polymers for 157nm Photoresist Applications: A Progress Report.
PATTERSON K
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
YAMACHIKA M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
HUNG R
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
BRODSKY C
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
YAMADA S
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
SOMERVELL M
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
HALL D
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
CONLEY W
(International SEMATECH, TX)
,
WILLSON C G
(Univ. Texas at Austin, TX)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3999 号： Pt.1 ページ： 365-374 発行年： 2000年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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