文献
J-GLOBAL ID:200902161986797489
整理番号:94A0005133
Stress relaxation mechanisms by dislocations in the system Ge on Si.
著者 (5件):
ALBRECHT M
(Univ. Erlangen, Erlangen, DEU)
,
CHRISTIANSEN S
(Univ. Erlangen, Erlangen, DEU)
,
STRUNK H P
(Univ. Erlangen, Erlangen, DEU)
,
HANSSON P O
(Max-Planck-Inst. Festkoerperforschung, Stuttgart, DEU)
,
BAUSER E
(Max-Planck-Inst. Festkoerperforschung, Stuttgart, DEU)
資料名:
Diffusion and Defect Data Part B. Solid State Phenomena
(Diffusion and Defect Data Part B. Solid State Phenomena)
巻:
32/33
ページ:
433-444
発行年:
1993年
JST資料番号:
T0583A
ISSN:
1012-0394
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)