文献
J-GLOBAL ID:200902162523637896
整理番号:96A0543111
Ar/Cl2/O2プラズマによるPtのエッチング中のエッチ傾斜のコントロール
Control of Etch Slope during Etching of Pt in Ar/Cl2/O2 Plasmas.
著者 (6件):
YOO W J
(Samsung Electronics Co. Ltd., Kyungki-Do, KOR)
,
HAHM J H
(Samsung Electronics Co. Ltd., Kyungki-Do, KOR)
,
KIM H W
(Samsung Electronics Co. Ltd., Kyungki-Do, KOR)
,
JUNG C O
(Samsung Electronics Co. Ltd., Kyungki-Do, KOR)
,
KOH Y B
(Samsung Electronics Co. Ltd., Kyungki-Do, KOR)
,
LEE M Y
(Samsung Electronics Co. Ltd., Kyungki-Do, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
35
号:
4B
ページ:
2501-2504
発行年:
1996年04月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)