文献
J-GLOBAL ID:200902162595256650
整理番号:93A0461968
薄膜成長における速度論的影響と熱力学的影響の原子レベル的観点
An Atomic-Level View of Kinetic and Thermodynamic Influences in the Growth of Thin Films.
著者 (1件):
LAGALLY M G
(Univ. Wisconsin-Madison, WI, USA)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
32
号:
3B
ページ:
1493-1501
発行年:
1993年03月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)