文献
J-GLOBAL ID:200902162665030085
整理番号:97A0993007
冷陰極応用のための窒化アルミニウムおよび窒化アルミニウムガリウム薄膜
Thin films of aluminum nitride and aluminum gallium nitride for cold cathode applications.
著者 (6件):
SOWERS A T
(North Carolina State Univ., North Carolina)
,
CHRISTMAN J A
(North Carolina State Univ., North Carolina)
,
BREMSER M D
(North Carolina State Univ., North Carolina)
,
WARD B L
(North Carolina State Univ., North Carolina)
,
DAVIS R F
(North Carolina State Univ., North Carolina)
,
NEMANICH R J
(North Carolina State Univ., North Carolina)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
71
号:
16
ページ:
2289-2291
発行年:
1997年10月20日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)