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文献
J-GLOBAL ID：200902162767857316
整理番号：00A0903391
Cl2電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマを利用したα型Ta膜のエッチング特性
Etching Characteristics of α-Type Ta Film Using Cl2 Electron Cyclotron Resonance (ECR) Plasma.
TAKAHASHI C
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
TSUCHIZAWA T
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
NISHIMURA H
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
ONO T
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
ODA M
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 39 号： 9A/B ページ： L945-L947 発行年： 2000年09月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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