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文献
J-GLOBAL ID：200902163517629403
整理番号：96A1023786
フェニルカルビノールの酸触媒脱水素反応による負のレジスト 化学構造とレジスト感度の相関性
Negative Resists Using Acid-Catalyzed Dehydration of Phenylcarbinols: Correlation between Chemical Structure and Resist Sensitivity.
KOJIMA K
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
UCHINO S
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
ASAI N
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
,
UENO T
(Hitachi, Ltd., Tokyo, JPN)
資料名：
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻： 8 号： 10 ページ： 2433-2438 発行年： 1996年10月
JST資料番号： T0893A ISSN： 0897-4756 CODEN： CMATEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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