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文献
J-GLOBAL ID：200902163882748411
整理番号：93A0636436
CVD法によるサファイア基板上へのBi4Ti3O12エピタキシャル膜の合成
Preparation of epitaxial Bi4Ti3O12 films on sapphire substrates by chemical vapor deposition.
増本博
(東北大 金材研)
,
滑川政彦
(東北大 金材研)
,
山根久典
(東北大 金材研)
,
平井敏雄
(東北大 金材研)
資料名：
粉体および粉末冶金
(Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy)
巻： 40 号： 7 ページ： 693-696 発行年： 1993年07月
JST資料番号： F0691A ISSN： 0532-8799 CODEN： FOFUA2 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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