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文献
J-GLOBAL ID：200902164106696475
整理番号：95A0379990
Si非晶質薄膜のPd誘起横方向結晶化
Pd induced lateral crystallization of amorphous Si thin films.
LEE S-W
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
JEON Y-C
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
JOO S-K
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 66 号： 13 ページ： 1671-1673 発行年： 1995年03月27日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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