文献
J-GLOBAL ID:200902164199413214
整理番号:93A0950249
最新のマイクロリソグラフィー用ふっ化クリプトンエキシマレーザ
Krypton fluoride excimer laser for advanced microlithography.
著者 (1件):
SENGUPTA U K
(Cymer Laser Technologies, Inc., California)
資料名:
Optical Engineering
(Optical Engineering)
巻:
32
号:
10
ページ:
2410-2420
発行年:
1993年10月
JST資料番号:
B0577B
ISSN:
0091-3286
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)