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文献
J-GLOBAL ID：200902164226902508
整理番号：99A0446983
Cl2/N2とCl2/HBrの平面誘導結合プラズマによる単結晶Siトレンチエッチングにおけるエッチ誘起損傷
Etch-induced damage in single crystal Si trench etching by planar inductively coupled Cl2/N2 and Cl2/HBr plasmas.
LEE Y J
(Sung Kyun Kwan Univ., Suwon, KOR)
,
HWANG S W
(Sung Kyun Kwan Univ., Suwon, KOR)
,
YEOM G Y
(Sung Kyun Kwan Univ., Suwon, KOR)
,
LEE J W
(Korean Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
,
LEE J Y
(Korean Advanced Inst. Sci. and Technol., Taejon, KOR)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 341 号： 1/2 ページ： 168-171 発行年： 1999年03月12日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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