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文献
J-GLOBAL ID：200902164476541942
整理番号：96A0033772
スパッタした窒化チタン/シリコン基板上にジメチルエチルアミンアランを用いた有機金属化学蒸着により堆積したアルミニウム膜の構造評価
Structural characterization of aluminum films deposited on sputtered-titanium nitride/silicon substrate by metalorganic chemical vapor deposition from dimethylethylamine alane.
LI X
(Pohang Univ. Sci. and Technol.(POSTECH), Kyung-buk, KOR)
,
KIM B-Y
(Pohang Univ. Sci. and Technol.(POSTECH), Kyung-buk, KOR)
,
RHEE S-W
(Pohang Univ. Sci. and Technol.(POSTECH), Kyung-buk, KOR)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 67 号： 23 ページ： 3426-3428 発行年： 1995年12月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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