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文献
J-GLOBAL ID：200902164500961966
整理番号：97A0586948
光近視野内の100nm以下フォトリソグラフィーに対するエラストメトリック位相マスクの利用
Using an elastomeric phase mask for sub-100nm photolithography in the optical near field.
ROGERS J A
(Harvard Univ., Massachusetts)
,
PAUL K E
(Harvard Univ., Massachusetts)
,
JACKMAN R J
(Harvard Univ., Massachusetts)
,
WHITESIDES G M
(Harvard Univ., Massachusetts)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 70 号： 20 ページ： 2658-2660 発行年： 1997年05月19日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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