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文献
J-GLOBAL ID：200902164505205302
整理番号：94A0129143
ブランキングアパーチャアレイで個々に制御した1024本の電子ビームを備えた高速電子ビームリソグラフィー装置
Fast Electron Beam Lithography System with 1024 Beams Individually Controlled by Blanking Aperture Array.
YASUDA H
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
,
ARAI S
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
,
KAI J
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
,
OOAE Y
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
,
ABE T
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
,
TAKAHASHI Y
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
,
HUEKI S
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
,
MARUYAMA S
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
,
BETSUI K
(Fujitsu Ltd., Kawasaki)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 32 号： 12B ページ： 6012-6017 発行年： 1993年12月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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