文献
J-GLOBAL ID:200902164514651242
整理番号:97A1011412
Ar/ハロゲン混合ガスのプラズマを用いた白金エッチングにおける側壁堆積膜
Sidewall deposition film in platinum etching with Ar/halogen mixed gas plasmas.
著者 (2件):
SHIBANO T
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
OOMORI T
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
15
号:
5
ページ:
1747-1751
発行年:
1997年09月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)