文献
J-GLOBAL ID:200902164609206378
整理番号:01A0073804
デュアルソースdcマグネトロンスパッタリングによるTiC膜の蒸着
Deposition of TiC films by dual source dc magnetron sputtering.
著者 (3件):
INOUE S
(Himeji Inst. Technol., Himeji, JPN)
,
WADA Y
(Himeji Inst. Technol., Himeji, JPN)
,
KOTERAZAWA K
(Himeji Inst. Technol., Himeji, JPN)
資料名:
Vacuum
(Vacuum)
巻:
59
号:
2/3
ページ:
735-741
発行年:
2000年11月
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)