文献
J-GLOBAL ID:200902164637653851
整理番号:93A0851241
Advanced lithography simulation tools for development and analysis of wide-field high NA projection optical systems.
著者 (4件):
CONNORS J E
(GCA Tropel, NY)
,
KOS T M
(GCA Tropel, NY)
,
PACK R C
(R.C.Pack Associates, CA)
,
SMITH B W
(Rochester Inst. Technology, NY)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1927
号:
Pt 1
ページ:
494-510
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)