文献
J-GLOBAL ID:200902165030835108
整理番号:98A0657701
深部イオンビーム・リソグラフィーのための高分解能ビーム走査システム
A high resolution beam scanning system for deep ion beam lithography.
著者 (5件):
SANCHEZ J L
(National Univ. Singapore, Singapore, SGP)
,
VAN KAN J A
(National Univ. Singapore, Singapore, SGP)
,
OSIPOWICZ T
(National Univ. Singapore, Singapore, SGP)
,
SPRINGHAM S V
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
WATT F
(National Univ. Singapore, Singapore, SGP)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻:
136/138
ページ:
385-389
発行年:
1998年03月
JST資料番号:
H0899A
ISSN:
0168-583X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)