文献
J-GLOBAL ID:200902165081368857
整理番号:93A0546857
ヘリウム希釈シランからプラズマCVDによって蒸着させた水素化アモルファス・シリコンの安定性
Stability of hydrogenated amorphous silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapour deposition from helium-diluted silane.
著者 (6件):
MEAUDRE R
(Univ. Lyon I, Villeurbanne, FRA)
,
MEAUDRE M
(Univ. Lyon I, Villeurbanne, FRA)
,
VIGNOLI S
(Univ. Lyon I, Villeurbanne, FRA)
,
CABARROCAS P R
(Ecole Polytechnique, Palaiseau, FRA)
,
BOUIZEM Y
(Univ. P. et M. Curie, Paris, FRA)
,
THEYE M L
(Univ. P. et M. Curie, Paris, FRA)
資料名:
Philosophical Magazine. B. Physics of Condensed Matter: Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties
(Philosophical Magazine. B. Physics of Condensed Matter: Statistical Mechanics, Electronic, Optical and Magnetic Properties)
巻:
67
号:
4
ページ:
497-511
発行年:
1993年04月
JST資料番号:
H0004B
ISSN:
1364-2812
CODEN:
PMABDJ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)