文献
J-GLOBAL ID:200902165274736420
整理番号:99A0497008
Cat-CVD SiNx膜の面内均一性向上に関する検討
Study on improvement on uniformity of Cat-CVD SiNx thin films.
著者 (4件):
工藤昭吉
(北陸先端科学技術大学院大)
,
増田淳
(北陸先端科学技術大学院大)
,
和泉亮
(北陸先端科学技術大学院大)
,
松村英樹
(北陸先端科学技術大学院大)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
99
号:
21(ED99 1-10)
ページ:
59-66
発行年:
1999年04月22日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)