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文献
J-GLOBAL ID：200902165459818430
整理番号：98A0368681
低温Ta2O5膜に対する窒素プラズマアニーリング
Nitrogen plasma annealing for low temperature Ta2O5 films.
ALERS G B
(Bell Lab., New Jersey)
,
FLEMING R M
(Bell Lab., New Jersey)
,
WONG Y H
(Bell Lab., New Jersey)
,
DENNIS B
(Bell Lab., New Jersey)
,
PINCZUK A
(Bell Lab., New Jersey)
,
REDINBO G
(Applied Materials, California)
,
URDAHL R
(Applied Materials, California)
,
ONG E
(Applied Materials, California)
,
HASAN Z
(Gasonics International, California)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 72 号： 11 ページ： 1308-1310 発行年： 1998年03月16日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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