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文献
J-GLOBAL ID:200902165459818430   整理番号:98A0368681

低温Ta2O5膜に対する窒素プラズマアニーリング

Nitrogen plasma annealing for low temperature Ta2O5 films.
著者 (9件):
ALERS G B
(Bell Lab., New Jersey)
FLEMING R M
(Bell Lab., New Jersey)
WONG Y H
(Bell Lab., New Jersey)
DENNIS B
(Bell Lab., New Jersey)
PINCZUK A
(Bell Lab., New Jersey)
REDINBO G
(Applied Materials, California)
URDAHL R
(Applied Materials, California)
ONG E
(Applied Materials, California)
HASAN Z
(Gasonics International, California)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 72  号: 11  ページ: 1308-1310  発行年: 1998年03月16日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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