文献
J-GLOBAL ID:200902165459818430
整理番号:98A0368681
低温Ta2O5膜に対する窒素プラズマアニーリング
Nitrogen plasma annealing for low temperature Ta2O5 films.
著者 (9件):
ALERS G B
(Bell Lab., New Jersey)
,
FLEMING R M
(Bell Lab., New Jersey)
,
WONG Y H
(Bell Lab., New Jersey)
,
DENNIS B
(Bell Lab., New Jersey)
,
PINCZUK A
(Bell Lab., New Jersey)
,
REDINBO G
(Applied Materials, California)
,
URDAHL R
(Applied Materials, California)
,
ONG E
(Applied Materials, California)
,
HASAN Z
(Gasonics International, California)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
72
号:
11
ページ:
1308-1310
発行年:
1998年03月16日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)