文献
J-GLOBAL ID:200902165720642450
整理番号:94A0463704
電子サイクロトロン共鳴プラズマ反応容器における6H-SiC単結晶の滑らかなエッチング
Smooth etching of single crystal 6H-SiC in an electron cyclotron resonance plasma reactor.
著者 (3件):
FLEMISH J R
(U.S. Army Research Lab., New Jersey)
,
XIE K
(Rutgers Univ., New Jersey)
,
ZHAO J H
(Rutgers Univ., New Jersey)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
64
号:
17
ページ:
2315-2317
発行年:
1994年04月25日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)