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文献
J-GLOBAL ID：200902165825444557
整理番号：93A0781497
Another step in developing a single wafer integrated process: Rapid thermal low pressure metalorganic chemical vapor deposition of local diffused W (Zn) contacts.
KATZ A
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
FEINGOLD A
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
EL-ROY A
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
MORIYA N
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
KOVALCHICK J
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
ABERNATHY C R
(AT & T Bell Lab., New Jersey)
,
GEVA M
(AT & T Bell Lab., Pennsylvania)
,
LANE E
(AT & T Bell Lab., Pennsylvania)
資料名：
Chemical Perspectives of Microelectronic Materials 3
(Chemical Perspectives of Microelectronic Materials 3)
ページ： 217-227 発行年： 1993年
JST資料番号： K19930443 ISBN： 1-55899-177-8 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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