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文献
J-GLOBAL ID：200902165860626102
整理番号：95A0906359
Cu(I)およびCu(II)前駆物質系を用いる銅の化学蒸着に対するヘキサフルオロアセチルアセトン添加の影響
The Effect of Adding Hexafluoroacetylacetone on Chemical Vapor Deposition of Copper Using Cu(I) and Cu(II) Precursor Systems.
AWAYA N
(NTT LSI lab., Kanagawa, JPN)
,
OHNO K
(NTT LSI lab., Kanagawa, JPN)
,
ARITA Y
(NTT LSI lab., Kanagawa, JPN)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 142 号： 9 ページ： 3173-3179 発行年： 1995年09月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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