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文献
J-GLOBAL ID：200902165892503827
整理番号：02A0599289
絶縁体上シリコン(SOI)超薄膜層の熱凝塊化に及ぼすパターン形成の影響
Effect of patterning on thermal agglomeration of ultrathin silicon-on-insulator layer.
ISHIKAWA Y
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
KUMEZAWA M
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
NURYADI R
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
TABE M
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 190 号： 1/4 ページ： 11-15 発行年： 2002年05月08日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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