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文献
J-GLOBAL ID：200902166019972086
整理番号：02A0616911
157nmリソグラフィー用のフォトレジスト材料の設計のためのVUV領域における光吸収スペクトルのDFT計算
DFT Calculations of Photoabsorption Spectra in the VUV Region for Design of Photoresist Materials for 157 nm Lithography.
ANDO S
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
FUJIGAYA T
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
UEDA M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 4 ページ： 559-568 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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