文献
J-GLOBAL ID:200902166040094757
整理番号:93A0329109
ナノ分散CrSi(O,N)薄膜 伝導率,熱起電力と応用
Nanodisperse CrSi(O,N) thin films-conductivity, thermopower and applications.
著者 (5件):
HEINRICH A
(Inst. Festkoerper- und Werkstofforschung Dresden e.V., Dresden, DEU)
,
SCHUMANN J
(Inst. Festkoerper- und Werkstofforschung Dresden e.V., Dresden, DEU)
,
VINZELBERG H
(Inst. Festkoerper- und Werkstofforschung Dresden e.V., Dresden, DEU)
,
BRUESTEL U
(Inst. Festkoerper- und Werkstofforschung Dresden e.V., Dresden, DEU)
,
GLADUN C
(Inst. Festkoerper- und Werkstofforschung Dresden e.V., Dresden, DEU)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
223
号:
2
ページ:
311-319
発行年:
1993年02月15日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)