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文献
J-GLOBAL ID：200902166208000435
整理番号：93A0596468
DCマグネトロンスパッタにより作製したa-Si:Hおよびa-Si1-xCx:Hの微細構造特性
Microstructural properties of DC magnetron sputtered a-Si:H and a-Si1-xCx:H.
GRACIN D
(Rudjer Boskovi<span style=text-decoration:overline>c ́</span> Inst., Zagreb, YUG)
,
IVANDA M
(Rudjer Boskovi<span style=text-decoration:overline>c ́</span> Inst., Zagreb, YUG)
,
LUGOMER S
(Rudjer Boskovi<span style=text-decoration:overline>c ́</span> Inst., Zagreb, YUG)
,
DESNICA U V
(Rudjer Boskovi<span style=text-decoration:overline>c ́</span> Inst., Zagreb, YUG)
,
RADI<span style=text-decoration:overline>C ́</span> N
(Rudjer Boskovi<span style=text-decoration:overline>c ́</span> Inst., Zagreb, YUG)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 70/71 号： Pt B ページ： 686-690 発行年： 1993年06月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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