文献
J-GLOBAL ID:200902166368321653
整理番号:93A0503764
ダウンストリームマイクロ波およびラジオ波平板プラズマ反応器におけるGaAsのアンモニアプラズマ不動態化
Ammonia plasma passivation of GaAs in downstream microwave and radio-frequency parallel plate plasma reactors.
著者 (5件):
AYDIL E S
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
GIAPIS K P
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
GOTTSCHO R A
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
DONNELLY V M
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
,
YOON E
(AT&T Bell Lab., New Jersey)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
11
号:
2
ページ:
195-205
発行年:
1993年03月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)