文献
J-GLOBAL ID:200902166421623900
整理番号:94A0104317
電着における電流分布に対するリソグラフィーパターニングの影響 実験による研究および物質移動効果
The Influence of Lithographic Patterning on Current Distribution in Electrodeposition: Experimental Study and Mass-Transfer Effects.
著者 (5件):
MEHDIZADEH S
(IBM Research Division, New York)
,
DUKOVIC J
(IBM Research Division, New York)
,
ANDRICACOS P C
(IBM Research Division, New York)
,
ROMANKIW L T
(IBM Research Division, New York)
,
CHEH H Y
(Columbia Univ., New York)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
140
号:
12
ページ:
3497-3505
発行年:
1993年12月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)