文献
J-GLOBAL ID:200902166483736786
整理番号:94A0043532
Ion beam synthesis of buried and surface nickel silicides during a single implantation step.
著者 (9件):
WU M F
(Peking Univ., Beijing, CHN)
,
DE WACHTER J
(Univ. Leuven, Leuven, BEL)
,
PATTYN H
(Univ. Leuven, Leuven, BEL)
,
VAN BAVEL A-M
(Univ. Leuven, Leuven, BEL)
,
LANGOUCHE G
(Univ. Leuven, Leuven, BEL)
,
VANHELLEMONT J
(IMEC, Leuven, BEL)
,
BENDER H
(IMEC, Leuven, BEL)
,
MAENHOUDT M
(Univ. Leuven, Leuven, BEL)
,
BRUYNSERAEDE Y
(Univ. Leuven, Leuven, BEL)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
73
ページ:
246-252
発行年:
1993年11月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)