文献
J-GLOBAL ID:200902166556135891
整理番号:99A0042852
化学増幅レジスト用の光酸発生剤としての高感光性のジアゾ化合物
Highly Photosensitive Diazo Compounds as Photoacid Generators for Chemically Amplified Resists.
著者 (5件):
HARADA K
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
KUSHIDA M
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
SAITO K
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
SUGITA K
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
IIDA H
(Toyo Goshei Kogyo Co., Chiba, JPN)
資料名:
ACS Symposium Series (American Chemical Society)
(ACS Symposium Series (American Chemical Society))
号:
706
ページ:
126-133
発行年:
1998年
JST資料番号:
H0588B
ISSN:
0097-6156
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)