文献
J-GLOBAL ID:200902166785798543
整理番号:93A0483027
Atomic hydrogen chemisorption on Si(100)(2×1) studied by FI-STM.
著者 (5件):
WANG X-D
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
LU H
(Lab. Surface Physics, Academia Sinica, Beijing, CHN)
,
HASHIZUME T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
PICKERING H W
(Pennsylvania State Univ., PA, USA)
,
SAKURAI T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
67
ページ:
266-274
発行年:
1993年04月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)