文献
J-GLOBAL ID:200902166889617770
整理番号:93A0660233
シリコン(001)基板上のエピタキシャルダイヤモンド薄膜
Epitaxial diamond thin films on (001) silicon substrates.
著者 (5件):
JIANG X
(Fraunhofer-Inst. Schicht- und Oberflaechentechnik, Hamburg, DEU)
,
KLAGES C-P
(Fraunhofer-Inst. Schicht- und Oberflaechentechnik, Hamburg, DEU)
,
ZACHAI R
(Daimler-Benz AG, Ulm, DEU)
,
HARTWEG M
(Daimler-Benz AG, Ulm, DEU)
,
FUESSER H-J
(Daimler-Benz AG, Ulm, DEU)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
62
号:
26
ページ:
3438-3440
発行年:
1993年06月28日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)