文献
J-GLOBAL ID:200902166932658051
整理番号:93A0890154
Simulating Diffusion Processes upon Thermal Annealing of Silicon under Oxidation Conditions.
著者 (4件):
BURENKOV A F
(Byelorussian State Univ., Minsk, SUN)
,
KORZYUK V I
(Byelorussian State Univ., Minsk, SUN)
,
MOZOLEVSKII I E
(Byelorussian State Univ., Minsk, SUN)
,
CHEB E S
(Byelorussian State Univ., Minsk, SUN)
資料名:
Physics, Chemistry and Mechanics of Surfaces
(Physics, Chemistry and Mechanics of Surfaces)
巻:
8
号:
5
ページ:
741-745
発行年:
1993年09月
JST資料番号:
D0591C
ISSN:
0734-1520
CODEN:
PCMSER
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)